- A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜相组成的研究
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- 论文类型： 期刊论文
- 发表时间： 1986-07-02
- 发表刊物： 金属热处理学报
- 期号： 02
- 页面范围： 72-80
- ISSN号： 1009-6264
- 关键字： 磁控溅射离子镀;相组成;A3;钢基体;铝膜;
- 摘要： 本文应用X射线衍射分析和电子衍射分析研究了A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜的相组成。结果表明,膜的相组成主要是基板负偏压决定的。当基板负偏压低于300V时磁控溅射离子镀铝膜是单质铝膜;当基板负偏压为500V时镀膜中心出现了Al_(13)Fe_4相;随着基板负偏压增加,膜中相继出现了Al_5Fe_2、AlFe和AlFe_3等含铁量高的Fe-Al化合物相。
