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论文类型：期刊论文

发表时间：2011-12-15

发表刊物：无机材料学报

收录刊物：Scopus、SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD

卷号：26

期号：12

页面范围：1281-1286

ISSN号：1000-324X

关键字：HfLaO薄膜;磁控溅射;热学稳定性;光学性能

摘要：采用射频磁控溅射技术制备HfLaO薄膜,利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微结构,通过紫外可见光分光光度计测量了薄膜的透过谱,计算了薄膜的折射率和禁带宽度,利用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌.结果表明:沉积态HfLaO(La:25%～37%)薄膜均为非晶态,随着La掺入量的增加,HfLaO薄膜的结晶化温度逐渐升高,HfLaO(La～37%)薄膜经900℃高温退火后仍为非晶态,具有优良的热稳定性,AFM形貌分析显示非晶薄膜表面非常平整.随着La掺入量的增加,HfLaO薄膜的透射率先降后增,在可见光范围薄膜均保持较高的透射率(82%以上).HfLaO薄膜的折射率为1.77~1.87.随着La掺入量的增加,HfLaO薄膜的折射率呈先增后降的变化趋势,同时HfLaO薄膜的Eg逐渐降低,分别为5.9eV(La～17%)、5.87eV(La～25%)、5.8eV(La～33%)和5.77eV(La～37%).