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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：女
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：物理学院
电子邮箱：daizhl@dlut.edu.cn
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带柱形凹槽电极表面双频偏压等离子体鞘层物理特性的研究
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论文类型：会议论文
发表时间：2009-07-20
页面范围：2
关键字：等离子体鞘;等离子体密度;频偏;离子能量;微机电系统;离子密度;电容耦合;自偏压;定标关系;超松弛;
摘要：在大规模集成电路和微机电系统制造中,等离子体刻蚀工艺已经成为关键技术。双频电容耦合等离子体(dual frequency capcitive coupled plasma-DFCCP)刻蚀的优势是可以实现对等离子体密度和能量的独立控制,既可以提高等离子体密度提高刻蚀率,又可