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高功率脉冲非平衡磁控溅射放电特性和参数研究

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2010-12-15

Journal:核聚变与等离子体物理

Included Journals:Scopus、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:30

Issue:4

Page Number:365-369

ISSN No.:0254-6086

Key Words:磁控溅射;放电;脉冲技术

Abstract:用线圈电流控制非平衡磁场,用汤森放电击穿形成深度自触发放电,用磁阱捕获放电形成的二次电子和导致漂移电流,形成了高功率非平衡磁控溅射放电.采用偏压为-100V相对磁控靶放置的圆形平面电极收集饱和离子电流;在距离磁控靶14cm的位置由Langmuir探针测量浮置电位;示波器测量磁控靶的脉冲电压、电流、浮置电位和饱和离子电流信号.装置的放电脉冲功率达到0.9MW,脉冲频率最大值为40Hz左右,空间电荷限制条件是控制电子电流和离子电流的主要机制.

Pre One:中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能

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