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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2011-01-15

Journal:物理学报

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:60

Issue:1

Page Number:422-428

ISSN No.:1000-3290

Key Words:放电;脉冲技术

Abstract:采用直流电源放电形成高功率脉冲非平衡磁控溅射(dc-high power impulse unbalanced magnetron sputtering,dc-HPPUMS或dc-HiPiUMS),利用雪崩放电的击穿机理形成深度自触发放电,同轴线圈和空心阴极控制放电特性和提高功率密度.磁阱俘获雪崩放电形成的二次电子和形成漂移电流,形成了大电流脉冲放电,放电脉冲电流密度峰值超过100 A/cm2,脉冲频率小于40 Hz.由于放电等离子体远没有达到平衡状态,放电电流主要受到空间电荷效应的限制,采用放电理论分析了形成高电离率和强脉冲电流的机理,采用蔡尔德定律计算的放电参数符合实验的结果.