location: Current position: Home >> Scientific Research >> Paper Publications

MEMS制造中精确测量薄膜厚度的方法研究与比较

Hits:

Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2015-10-20

Journal:传感器与微系统

Included Journals:CSCD

Volume:34

Issue:10

Page Number:15-17,21

ISSN No.:1000-9787

Key Words:薄膜厚度;接触式表面轮廓仪;光谱椭偏仪

Abstract:精确测量各种功能薄膜的厚度在微机电系统( MEMS)制造加工过程中有非常重要的意义。利用接触式表面轮廓仪、光谱椭偏仪、电感测微仪、扫描电镜、原子力显微镜和工具显微镜分别测量了10 nm~100μm各种薄膜的厚度。比较了不同测量仪器的测量范围、分辨率和对样品的适用性,分析了薄膜厚度测量过程中误差产生的机理。实验结果表明:当存在膜层台阶时,10 nm~100μm的膜厚测量均可采用接触式表面轮廓仪,对于硬度较高的膜层可采用电感测微仪,对于厚度小于0.5μm的膜层可采用原子力显微镜;对于可观察样品侧面、厚度大于0.7μm的膜层可采用扫描电镜,工具显微镜适用于μm级膜层,对于厚度大于20μm的膜层不宜采用光谱椭偏仪。

Pre One:休斯光刻机汞灯电源原理与维修技术

Next One:Study on internal stress in micro-electroformed layer