边继明

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:中科院上海硅酸盐研究所

学位:博士

所在单位:物理学院

学科:微电子学与固体电子学. 凝聚态物理

办公地点:大连理工大学科技园C座301-1办公室

联系方式:E-mail:jmbian@dlut.edu.cn.

电子邮箱:jmbian@dlut.edu.cn

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论文成果

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脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能

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论文类型:期刊论文

发表时间:2006-12-30

发表刊物:发光学报

收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD

卷号:27

期号:6

页面范围:958-962

ISSN号:1000-7032

关键字:ZnO薄膜;脉冲激光沉积;光致发光

摘要:采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上生长ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)等手段分析了所得ZnO薄膜的晶体结构和微观形貌.优化工艺(700 ℃,20 Pa)下生长的ZnO薄膜呈c轴高度择优取向,柱状晶垂直衬底表面生长,结构致密均匀.室温光致发光(PL)谱分析结果表明,随着薄膜生长时O2分压的增大,近带边紫外发光峰与深能级发光峰之比显著增强,表明薄膜的结晶性能和化学计量比都有了很大的改善.O2分压为20 Pa时所生长的ZnO薄膜具有较理想的化学计量比和较高的光学质量.