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电化学刻蚀制备多孔InP

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Indexed by:会议论文

Date of Publication:2006-07-24

Volume:Vol.37

Page Number:324-325

Key Words:多孔InP;电化学刻蚀;耗尽层;场强化效应;扫描电子显微镜

Abstract:利用扫描电子显微镜(SEM)对电化学刻蚀多孔InP的形貌进行了表征,用耗尽层模型和场强化效应模型讨论了多孔InP刻蚀的机制.

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