- 低介电常数聚酰亚胺基多孔复合材料的研究进展
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- 论文类型： 期刊论文
- 发表时间： 2016-10-20
- 发表刊物： 材料科学与工程学报
- 收录刊物： PKU、ISTIC、CSCD
- 卷号： 34
- 期号： 5
- 页面范围： 843-847,829
- ISSN号： 1673-2812
- 关键字： 介电常数;聚酰亚胺;多孔;层间绝缘材料
- 摘要： 随着微电子工业的迅速发展,对层间绝缘材料提出了更高的要求.聚酰亚胺因其良好的热稳定性和较低的介电常数被广泛应用于大规模集成电路的层间绝缘材料.本文主要对低介电常数聚酰亚胺基复合材料的制备方法进行了综述,着重介绍了笼型倍半硅氧烷(POSS)、多孔SiO2、蒙脱石、多金属氧酸盐(POMs)、石墨烯衍生物的引入在降低聚酰亚胺介电常数方面的应用,并对低介电常数聚酰亚胺的发展前景进行了展望.
