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基于纯硅沸石修饰层的钯复合膜制备方法研究

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2009-09-30

Journal:现代化工

Included Journals:PKU、ISTIC

Volume:29

Issue:z1

Page Number:196-199

ISSN No.:0253-4320

Key Words:无机膜;钯膜;沸石;氢气分离;化学镀

Abstract:以大孔α-Al_2O_3陶瓷管(平均孔径为3μm)为载体,采用水热合成法在其表面形成一层纯硅沸石(Silicalite-1)修饰层,利用化学镀法在经过纯硅沸石修饰后的载体表面成功制备出致密钯复合膜,钯膜厚度约为5 μm.利用SEM对复合膜的结构和形貌进行了分析,并在350~500℃范围内对基于纯硅沸石修饰层的钯复合膜进行气体渗透测试表明,该沸石层修饰法制备的钯复合膜具有良好的氢渗透性.在500℃时,氧气渗透通量可达为0.12mol/(m~2·s),理想气体分离因子α(H_2/N_2)达到420.并对该钯膜与在载体表面直接制备的钯复合膜性能的差异进行了讨论.

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