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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2011-05-01

发表刊物： 物理化学学报

收录刊物： SCIE、PKU、ISTIC、CSCD

卷号： 27

期号： 5

页面范围： 1116-1121

ISSN号： 1000-6818

关键字： 聚吡咯;过氧化;氧化还原稳定性;连续电位阶跃

摘要： 连续电位阶跃方法是一种研究氧化还原稳定性的有效方法.本文采用连续电位阶跃方法研究了以对甲苯磺酸钠为掺杂剂的聚吡咯(ppy)膜的电化学氧化还原稳定性,通过计算聚吡咯在阶跃电位下的还原电量(Qred),还原和氧化电量的比值(Qred/Qox)考察聚吡咯在H2SO4、Na2SO4和NaOH溶液中在不同电位下的氧化还原可逆性.结果发现聚吡咯过氧化的发生强烈依赖支持电解质的pH值和阶跃电位.在H2SO4溶液中,过氧化的起始电位为0.8 V,而在Na2SO4溶液中.过氧化的起始电位为0.5V.在NaOH溶液中,过氧化在任何电位均可发生,表明溶液中OH-的存在是过氧化发生的直接原因.