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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2008-04-01

发表刊物： 物理化学学报

收录刊物： SCIE、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

卷号： 24

期号： 4

页面范围： 612-618

ISSN号： 1000-6818

关键字： 聚吡咯;氧化还原行为;电解质溶液;FT-IR

摘要： 以对甲基苯磺酸钠(P-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜,采用循环伏安法在-1.6-0.8 V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为.结果表明,在H2SO4溶液中,以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征,并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰.在Na2SO4和NaOH溶液中,以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征.FT-IR吸收光谱显示,经NaOH处理后,聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏,而经H2SO4和Na2SO4处后,膜的共轭结构未发生变化.