Title of Paper:A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜的物相分析

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Date of Publication:1986-03-22

Journal:大连工学院学报

Issue:02

Page Number:87-92

ISSN No.:1000-8608

Key Words:离子镀;金属薄膜;相分析;阴极溅射;磁控管源/离子镀铝膜

Abstract:本文应用 Ｘ射线衍射分析和电子衍射分析研究了Ａ３钢基体磁控溅射离子镀铝 膜的相组成，结果表明，膜的相组成主要是基板负偏压所决定的。文中论述了正离子 对基板的溅射作用所引起的靶材原子和基板（基体）原子在基板上共同沉积的成膜机 理。