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微纳米颗粒设计的超临界沉析技术(二)

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2006-03-10

Journal:通用机械

Issue:3

Page Number:73-78

ISSN No.:1671-7139

Key Words:微纳米;半连续操作;抗溶剂;溶液法;溶剂残留量;间歇操作;RESS;醋酸锌;粒度分布;生长机理;

Abstract:(上接2005年第8期)
三、超临界抗溶剂过程
1.SAS过程的基本原理
为克服有些物质在超临界流体中溶解度很小或根本不溶解而无法采用RESS技术的问题,1989年,Gallagher等提出了超临界抗溶剂(Supercritical Anti-Solvent,简称SAS)沉析技术.

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