Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2011-01-25

Journal: 真空

Included Journals: ISTIC

Volume: 48

Issue: 1

Page Number: 21-24

ISSN: 1002-0322

Key Words: 太阳能;吸收涂层;磁控溅射;WAlN/W

Abstract: 采用全封闭磁场的非平衡态磁控溅射系统,以纯金属为靶材,制备了AlN/WAlN(多层)/W薄膜.X射线掠射(GID)、扫描电镜(SEM)以及分光光度计等测试手段分析薄膜的相结构、表面形貌以及吸收光谱等特性.结果表明,薄膜沉积设备性能稳定,W、Al靶材溅射率高.获得AlN/WAlN(多层)/W薄膜中各层薄膜表面质地都较均匀,且为多晶态或纳米晶薄膜.该结构膜系对波长在200～2000nm范围内的光波有较高的吸收效果,平均吸收率可达96%以上,吸收性能优异.