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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2013-08-15
Page Number:242-242
Key Words:磁约束;等离子体源;等离子体刻蚀;网孔;靶板;直流高压;等离子体密度;初始时刻;粒子模拟;电势分布;
Abstract:引言低温等离子体刻蚀和沉积、以及磁约束核聚变中的中性束加热都需要得到具有一定能量和方向的离子束。我们可以通过栅网从等离子体源中单独的引出离子,然后通过外加偏压对离子进行能量和方向的控制。离子的能量主要取决于外加偏压的大小,而离子引出的方向和栅网附近鞘层的分布相关。不同栅网网孔尺寸(和鞘层厚度相比)
