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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2003-09-01
Page Number:1
Key Words:电弧离子镀;鞘层;等离子体鞘;脉冲等离子体;状态研究;颗粒分布;薄膜质量;污染问题;粒子流;电场力;
Abstract:在电弧离子镀中,脉冲偏压工艺能一定程度地改善大颗粒的污染问题,获得脉冲偏压的电参数与颗粒分布、数量之间的对应关系,将会对提高电弧离子镀的薄膜质量具有重要意义,而研究尘埃颗粒在等离子体鞘层中的受力及运动状态,是解决这一问题的必由之路。
