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分子束质谱研究托卡马克边缘等离子体杂质形成

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Indexed by:会议论文

Date of Publication:2009-07-20

Page Number:1

Key Words:等离子体杂质;托卡马克;等离子体约束;分子束;磁约束;杂质气体;质谱研究;聚变反应堆;工作气体;杂质成分;

Abstract:磁约束等离子体聚变反应堆中,器壁或面向等离子体的材料放出的各种粒子(包括所吸附的工作气体、杂质气体及组成材料本身的元素物质),进入等离子体后对等离子体约束特性造成不良影响。另一方面,等离子体与材料相互作用会造成壁材料的损伤(辐照,活化,蒸发,溅射,起泡等),影

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