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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2008-09-15

Journal:真空科学与技术学报

Included Journals:Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:28

Issue:5

Page Number:415-419

ISSN No.:1672-7126

Key Words:半圆形容器 等离子体源离子注入 鞘层演化

Abstract:本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程.考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束流密度分布和注入剂量分布随时间的变化规律.研究结果显示,容器内表面附近鞘层扩展到附加电极后,其中的离子逐渐都注入到容器内表面、电场分布逐渐趋于稳定.同时,在容器内表面上,离子注入剂量不再增加.