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Indexed by:期刊论文
Date of Publication:1999-01-01
Journal:大连理工大学学报
Included Journals:PKU、CSCD
Volume:39
Issue:6
Page Number:761
ISSN No.:1000-8608
Key Words:磁场; 电化学抛光/加工效率
Abstract:建立了磁场电化学光整加工中离子运动轨迹方程,通过实验分析了磁场对光整加工的作用及整平机制. 研究结果表明: 1)磁场活跃了离子运动轨迹,改变了离子到达试件表面的方式,从而改善了表面粗糙度; 2)磁场的搅拌作用,加强了液相对流、离子的扩散和迁移,改变了电化学反应,使极间电流强度增大,加工效率提高; 3)磁场、电场和电极间隙存在最佳匹配关系.