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教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:mklei@dlut.edu.cn
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活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用
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论文类型:期刊论文
发表时间:2013-02-25
发表刊物:金属热处理
收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD
卷号:38
期号:2
页面范围:9-14
ISSN号:0254-6051
关键字:等离子体源渗氮;金属;聚合物;传质机制
摘要:活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术,消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷,且可处理聚合物材料及表面附着氧化皮的金属材料.本文介绍了活性屏等离子体源渗氮技术传质机理的研究进展,在改性低合金钢、不锈钢、工具钢、聚合物材料以及抗菌功能材料等方面的最新结果,评述了活性屏等离子体源渗氮技术存在的问题和发展趋势.