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论文类型：期刊论文

发表时间：2018-01-01

发表刊物：中国腐蚀与防护学报

收录刊物：CSCD

卷号：38

期号：1

页面范围：47-53

ISSN号：1005-4537

关键字：等离子体源渗氮; 高氮面心立方相; 钝化膜; 耐蚀性能; 半导体特性

摘要：采用等离子体源渗氮技术在AISI
   304L奥氏体不锈钢表面制备高氮面心结构的gamma_N相层。利用AES和XPS分析了gamma_N相层在pH值为8.4的硼酸溶液中钝化膜的化学
   组成,借助Mott-Schottky方程分析了gamma_N相层钝化膜的半导体特性。结果表明:gamma_N相层钝化膜具有双层结构,外层由Fe、
   Cr氢氧化物和氧化物构成,呈现出n型半导体特性;内层主要以Cr_2O_3为主,呈现出p型半导体特性,并且N以FeN_x和CrN_x形式存在于钝化
   膜内。与原始不锈钢钝化膜相比,gamma_N相层钝化膜内施主浓度和受主浓度更低,平带电位负移,说明其钝化膜致密性更好,腐蚀速率更低。