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论文类型：期刊论文

发表时间：2018-09-18

发表刊物：中国表面工程

卷号：31

期号：5

页面范围：92-98

ISSN号：1007-9289

关键字：活性屏等离子体源渗氮;奥氏体不锈钢;工艺特性;线性回归;传质机制

摘要：为揭示活性屏等离子体源渗氮工艺特性(试样偏压电位和试样距屏高度)对AISI 316奥氏体不锈钢渗氮效果的影响规律,利用最小二乘法线性回归拟合了不同工艺条件下渗氮层厚度数据,绘制了活性屏等离子体源渗氮AISI316奥氏体不锈钢的工艺特性图,以此确定其最佳工艺参数.并通过对金属网屏上溅射颗粒的化学成分和相结构分析,探讨了活性屏等离子体源渗氮的传质机制.结果表明:渗氮层厚度随试样距屏高度增大而降低,当适当降低渗氮气压或试样施加一定负偏压时,均有助于提高渗氮层的厚度,并且证实了“溅射-再沉积”模型是活性屏等离子体源渗氮重要的传质机制.