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论文类型：期刊论文

发表时间：2007-07-15

发表刊物：光学学报

收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

卷号：27

期号：7

页面范围：1322-1326

ISSN号：0253-2239

关键字：薄膜光学;镱铒共掺Al2O3薄膜;激光退火;表面形貌;退火均匀性

摘要：讨论了激光退火工艺参量对镱铒共掺Al2O3薄膜表面形貌和退火均匀性的影响.薄膜样品被置放于衰减扩束透镜的3倍焦距位置时,薄膜上8 mm半径区域内近似均匀退火;退火时间为32 s时,表面形貌与退火前基本相同.阈值退火功率为5 W,最佳退火功率为20 W.对相同工艺制备的镱铒共掺Al2O3薄膜分别进行CO2激光退火和热退火处理,光致发光(PL)谱测量表明,前者峰值强度比后者强10倍以上,并且热退火光致发光强度随抽运功率增加出现饱和、下降,而激光退火近似随抽运功率单调线性增强.