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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
电子邮箱：mklei@dlut.edu.cn
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微米宽度的反应离子刻蚀氧化铝薄膜研究
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论文类型：会议论文
发表时间：2005-11-01
页面范围：1223-1226
关键字：等离子体刻蚀 平面光波导 氧化铝薄膜 波导薄膜 热氧化法
摘要：Er3+掺杂Al2O3/SiO2/Si光波导薄膜采用热氧化法在Si(100)表面制备SiO2,溶胶-凝胶法提拉制备Er3+掺杂Al2O3.利用复合的射频等离子体刻蚀技术,以BCl3为工作气体,在工作气压1～10 Pa 下,刻蚀Er3+: Al2O3/SiO2/Si光波导薄膜.获得了线宽为2.0～3.0m,深度为300～600nm 的刻蚀结果,制备出脊状平面Er3+: Al2O3/SiO2/Si光波导.