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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
电子邮箱：mklei@dlut.edu.cn
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等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2002-07-01
发表刊物：无机材料学报
收录刊物：SCIE、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：17
期号：4
页面范围：887-890
ISSN号：1000-324X
关键字：氧化铝薄膜;等离子体源;磁控溅射沉积;折射率
摘要：采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.