刘贵昌

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:大连理工大学

学位:博士

所在单位:化工学院

学科:化学工程. 水科学与技术

办公地点:西部校区化工综合楼A503

联系方式:gchliu@dlut.edu.cn

电子邮箱:gchliu@dlut.edu.cn

扫描关注

论文成果

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

化学镀 Ni-P 机理研究

点击次数:

论文类型:期刊论文

发表时间:1998-10-05

发表刊物:大连理工大学学报

收录刊物:PKU

期号:05

页面范围:111-114

ISSN号:1000-8608

关键字:化学镀;电化学反应/Ni-P

摘要:采用电化学方法和仪器分析,对化学镀Ni-P机理进行了探讨.提出在化学镀Ni-P过程中,Ni的沉积服从电化学机理,它的沉积速度可通过混合电位理论,用沉积电流密度i乘以Ni的电化当量求得;而P的沉积则是在Ni的催化作用下的化学过程.