刘贵昌
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:化工学院
学科:化学工程. 水科学与技术
办公地点:西部校区化工综合楼A503
联系方式:gchliu@dlut.edu.cn
电子邮箱:gchliu@dlut.edu.cn
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阴离子对化学镀Ni-Cu-P合金耐蚀性的影响
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论文类型:期刊论文
发表时间:2010-08-20
发表刊物:辽宁化工
卷号:39
期号:8
页面范围:794-796
ISSN号:1004-0935
关键字:化学镀;Ni-Cu-P;耐蚀性能;钝化
摘要:采用化学镀工艺在铜基体表面沉积Ni-Cu-P镀层,利用扫描电镜(SEM)和电子能谱(EDX)对Ni-Cu-P镀层的形貌和成分进行了分析.同时,采用极化曲线(PC)和交流阻抗(EIS)研究了常温下Ni-Cu-P镀层在0.1 mol/L,0.001 mol/L的NaCl,Na2SO4,NaNO3和NaNO2电解质中的耐蚀性能.结果表明,在较高浓度下,氯离子和硫酸根离子的活性吸附作用能够促进镀层中Ni的溶解,从而也加速了镀层的表面钝化,在较低浓度下,氯离子和硫酸根离子的活性吸附作用减弱,镀层很难钝化;硝酸根离子和亚硝酸根离子在高浓度和低浓度下均很难使镀层钝化.