刘贵昌
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:化工学院
学科:化学工程. 水科学与技术
办公地点:西部校区化工综合楼A503
联系方式:gchliu@dlut.edu.cn
电子邮箱:gchliu@dlut.edu.cn
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铜上采用过渡层沉积类金刚石薄膜的研究
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论文类型:期刊论文
发表时间:2006-07-01
发表刊物:物理学报
收录刊物:SCIE、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
卷号:55
期号:7
页面范围:3748-3755
ISSN号:1000-3290
关键字:铜基体;类金刚石膜;过渡层;拉曼光谱
摘要:将等离子增强非平衡磁控溅射物理气相沉积(PEUMS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(MW-ECRPECVD)技术相结合,通过制备不同的过渡层,在铜基上成功地制备了类金刚石膜.拉曼光谱分析表明,所制备的碳膜具有典型的类金刚石结构特征.检测结果表明,随着沉积偏压的增大,D峰和G峰均向高波数漂移,ID/IG值增大,表面粗糙度减小,而平均硬度和弹性模量呈先增大后减小的趋势.