Release Time:2019-03-11  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2012-10-16

Journal: 金刚石与磨料磨具工程

Included Journals: ISTIC、Scopus

Volume: 32

Issue: 05

Page Number: 42-45+51

ISSN: 1006-852X

Key Words: 智能监控;硅片;化学机械抛光(CMP);生产效率

Abstract: 将智能控制的设计思想和各工艺参数对化学机械抛光(CMP)的影响机理相结合,开发了智能化CMP监控系统,该系统具有学习、推理和记忆的功能,适用于多种CMP设备。系统得出的工艺参数可以直接控制CMP抛光机的各控制单元,并且与以往的凭借经验的加工方式相比,系统操作界面友好,输入简单,易于操作。通过对硅片CMP过程进行全面地智能监控,可实现硅片智能化批量生产,并且在保证硅片加工质量的前提下,可以大幅提高生产效率。