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Ar,Ti离子注入Si3N4表面改性的研究

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:1994-01-01

Journal:硅酸盐学报

Included Journals:PKU、CSCD

Volume:22

Issue:6

Page Number:546

ISSN No.:0454-5648

Key Words:离子注入; 氮化硅; 结合力; 硬度; 韧性

Abstract:研究了Si_3N_4陶瓷及其表面蒸镀Al膜试样的离子注入效果。结果表明,Ti高子的注入与Ar离子的注入都可提高Al膜与陶瓷基体的结合力,并在一定的注入剂量范围内随着注入剂量的增加,Al膜与陶瓷基体的结合力也有增加的趋势。Ti离子的注入使表面硬度增加,表面硬度随Ti离子注入量的增加而提高。Ar离子的注入(10 ̄(15)Ions·cm ̄(-2))也使表面硬度增加,但继续增加Ar离子的注入量,表面硬度却下降。根据显微硬度压痕附近的裂纹长度,评价了Ti离子注入Si_3N_4陶瓷表面的断裂韧性。离子注入可改善Si_3N_4陶瓷的表面韧性,并且随着离子注入剂量的增加,韧性改善的幅度也变大。

Pre One:Molecular dynamics simulations of low-energy Pt cluster deposition