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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2009-02-11

Journal:金属学报

Included Journals:SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:45

Issue:2

Page Number:211-216

ISSN No.:0412-1961

Key Words:分子动力学(MD);嵌入原子法(EAM);溅射;吸附;空位

Abstract:采用嵌入原子势,运用分子动力学(MD)研究了Ti(0001)表面低能沉积不同能量Ti原子时表面吸附、溅射和空位的变化.低能Ti原子沉积Ti(0001)表面过程中,存在一个溅射能量阈值,其值大约为40-50 eV.入射原子能量低于溅射阈值时,入射原子可以认为是沉积原子;入射原子能量大于溅射阈值时,溅射产额随入射原子能量的增加而线性增加.表面吸附原子和溅射原子的分布都呈现6次旋转对称,当入射原子能量大于溅射阈值时,表面吸附原子主要是基体表层原子,入射原子直接成为表面吸附原子的概率很小.空位缺陷主要分布在基体的最表层,当入射原子能量大于溅射阈值时,基体次表层产生的空位缺陷随入射原子能量的增加而增多.