Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2012-05-30

Journal: 功能材料

Included Journals: Scopus、CSCD、ISTIC、PKU、EI

Volume: 43

Issue: 10

Page Number: 1268-1272

ISSN: 1001-9731

Key Words: HfTaO薄膜;磁控溅射;光学性能;热稳定性

Abstract: 采用反应射频磁控溅射技术制备HfTaO薄膜,利用X射线衍射（XRD）分析了薄膜的微结构,通过紫外-可见光分光光度计测量了薄膜的透过谱,计算了薄膜的折射率和禁带宽度,利用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌。结果表明,随着Ta掺入量（10%,26%,50%）的增加,HfTaO薄膜的结晶化温度分别为800、900、950℃,Ta掺入量继续增加到72%,经过950℃退火处理的HfTaO薄膜仍然保持非晶态,具有优良的热稳定性。AFM形貌分析显示非晶HfTaO薄膜表面非常平整。在550nm处薄膜折射率n随着Ta掺入量的增大而增大,n的变化区间为1.90～2.15。同时HfTaO薄膜的光学带隙Eg随着Ta掺入量的增大而逐渐减小,Eg的变化区间为4.15～5.29eV。