Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2011-06-20

Journal: 功能材料

Included Journals: ISTIC、PKU

Volume: 42

Issue: z3

Page Number: 536-540

ISSN: 1001-9731

Key Words: Mn掺杂ZnO薄膜;射频磁控溅射;微结构;光学特性

Abstract: 采用反应射频磁控溅射方法制备Zn1-xMnxO薄膜(0≤x≤0.25),并在不同温度下进行退火处理.通过原子力显微镜、薄膜X射线衍射、透射电子显微镜和透射光谱对薄膜的成分、表面形貌、微结构和光学性质进行了研究.结果表明,薄膜结晶质量明显地依赖于掺杂Mn元素的浓度,所有薄膜都表现了沿(002)晶面方向择优取向生长,当Mn含量为7%时,Mn完全进入ZnO晶格,无纳米级第二相析出,当Mn含量超过13%时,会有ZnMnO3杂相析出.Mn掺杂ZnO薄膜(Zn1-xMnxO,s≈0.07)经600～800℃退火处理后,薄膜的光学带隙发生蓝移,带隙能由3.17eV升高到3.27eV,当退火温度高于700℃时,薄膜中压应力得到释放.