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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：复旦大学
学位：博士
所在单位：物理学院
学科：凝聚态物理
办公地点：大连理工大学三束材料改性重点实验室1号楼203房间
联系方式：qyzhang@dlut.edu.cn 0411-84707930 转 13
电子邮箱：qyzhang@dlut.edu.cn
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基片温度对金刚石上沉积ZnO薄膜特性的影响
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论文类型：期刊论文
发表时间：2008-12-15
发表刊物：半导体光电
收录刊物：Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：29
期号：6
页面范围：884-887,892
ISSN号：1001-5868
关键字：声表面波滤波器;金刚石;ZnO薄膜;磁控溅射
摘要：采用磁控溅射在自持CVD金刚石厚膜的成核面上制备了ZnO薄膜,并实验研究了其生长特性和发光特性随温度的变化情况.利用X射线衍射(XRD)仪,光致发光(PL)谱,电子探针(EPMA)和霍尔测量系统对样品进行了检测.SEM结果表明,基片温度为600℃时ZnO薄膜表面粗糙度最低.而PL谱表明基片温度为750℃时ZnO薄膜具有最优的光学性能,此时由EPMA测得的薄膜中Zn/O成分比接近ZnO的化学计量比.霍尔测量表明,样品均呈现出高阻状态,满足声表面波滤波器的制备条件.