王安杰

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:大连理工大学

学位:博士

所在单位:化工学院

学科:工业催化

办公地点:西部校区化工实验楼B321

联系方式:大连市高新区凌工路2号大连理工大学西部校区B321

电子邮箱:ajwang@dlut.edu.cn

扫描关注

论文成果

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

免焙烧制备Ni2P/SiO2加氢脱硫催化剂

点击次数:

论文类型:期刊论文

发表时间:2013-10-25

发表刊物:石油学报(石油加工)

收录刊物:EI、CSCD、Scopus

卷号:29

期号:5

页面范围:767-772

ISSN号:1001-8719

关键字:Ni2P;SiO2;加氢脱硫;二苯并噻吩;免焙烧

摘要:采用免焙烧的方法,直接将负载Ni(NO3)2和(NH4)2HPO4盐的前驱体通过程序升温还原(TPR)制备了Ni2P/SiO2加氢脱硫(HDS)催化剂.以质量分数为0.8%的二苯并噻吩/十氢萘溶液为模型化合物,考察了Ni2P/SiO2催化剂的HDS反应催化性能,并用XRD对催化剂进行了表征.结果表明,免焙烧法制备的Ni2P/SiO2催化剂的单层分散阈值在15%~25%(质量分数)之间.随负载量增加,Ni2P/SiO2催化剂的HDS活性增加,但直接脱硫路径(DDS)选择性降低;当活性组分负载量大于单层分散阈值时,继续增加负载量对催化剂粒度和反应性能影响不大.免焙烧法制备的Ni2P/SiO2催化剂的HDS活性与传统方法制备的催化剂相当(负载量大于单层分散阈值时)或更高(负载量小于单层分散阈值时),并且具有良好的反应稳定性.TPR过程中升温程序是影响免焙烧法制备的Ni2P/SiO2催化剂HDS性能的重要因素;低温阶段升温速率对催化剂性能没有明显影响,而在400℃停留一段时间则有利于提高其活性.