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Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2005-08-28

Journal: 激光技术

Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU

Volume: 29

Issue: 4

Page Number: 440-442,445

ISSN: 1001-3806

Key Words: 中频溅射;镱铒共掺;光致发光光谱;光波导

Abstract: 在硅单晶(100)衬底上用热氧化法氧化一层SiO2做缓冲层,在高纯铝靶上镶嵌金属Yb,Er,然后用中频磁控溅射法制备了镱铒共掺杂氧化铝薄膜.讨论了靶电压及沉积速率随氧流量的变化的磁滞回线效应,分析得出了沉积氧化物薄膜的最佳氧流量.在室温下检测到了薄膜的位于1535nm的很强的光致发光光谱(PL),并在光学掩模下用BCl3离子束对薄膜样品进行刻蚀,得到条形光波导.