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气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析
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Indexed by:Journal Papers

Date of Publication:2019-04-10

Journal:电工技术学报

Included Journals:EI、PKU

Volume:34

Issue:13

Page Number:2752-2759

ISSN No.:1000-6753

Key Words:磁流体动力学;栅片灭弧;气流场;电弧电压

Abstract:建立了以磁流体动力学(MHD)理论为基础的气吹灭弧室电弧被气流吹入栅片过程的三维数值分析模型.与当前空气断路器普遍研究的采用磁场驱动电弧进入铁磁栅片区域并被切割为若干短弧相比,主要研究在灭弧室的进气口处施加气流来驱动电弧运动,并采用绝缘栅片来拉长和冷却空气电弧以提高电弧电压.基于商业软件包ANSYS FLUENT并对其进行二次开发,对气吹灭弧室中的多物理场耦合进行数值计算,仿真分析了不同材料栅片下电弧的运动和电压变化情况,采用全绝缘栅片可以获得最大的电弧电压;并比较分析了栅片间距和入口气压对电弧电压提升的影响,为开关电器中基于提升弧压应用场合的研究提供一定的指导作用.

Personal information

Professor
Supervisor of Doctorate Candidates
Supervisor of Master's Candidates

Title : 电信学部学部委员

Gender:Male

Alma Mater:大连理工大学

Degree:Doctoral Degree

School/Department:电气工程学院

Discipline:Electrical Machines and Apparatus. Power System And Its Automation. High Voltage and Insulation Technology

Business Address:大连理工大学电力电子研究所

Contact Information:0411-84708572

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Address: No.2 Linggong Road, Ganjingzi District, Dalian City, Liaoning Province, P.R.C., 116024

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