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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2011-01-01

Journal:材料科学与工程学报

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:29

Issue:3

Page Number:331

ISSN No.:1673-2812

Key Words:氮化硅薄膜; 折射率; 磁控溅射; 红外光谱

Abstract:本文采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在不同氮气流量比例的条件下制备出氮化硅薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射仪(XRD)、原
   子力显微镜(AFM)、椭偏仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的微观结构、表面形貌、沉积速率、折射率的影响。结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制
   备的薄膜为非晶态氮化硅。随着氮气流量比率的增加，SiN键红外光谱吸收带向低波数漂移，薄膜的沉积速率降低，表面结构更为光滑致密，氮化硅薄膜的折射率
   降低。薄膜的硬度和杨氏模量分别达到22和220GPa左右。