Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2012-07-15

Journal: 真空科学与技术学报

Included Journals: Scopus、CSCD、ISTIC、PKU、EI

Volume: 32

Issue: 7

Page Number: 622-625

ISSN: 1672-7126

Key Words: 磁控溅射;Co-Ni合金;溅射功率;薄膜成分

Abstract: 由于电镀硬铬对环境有一定的污染,因而选择合适的制备方式和合适的替代硬铬的材料具有一定的实际意义.本文选用Co-Ni作为硬铬的替代材料,并采用中频磁控溅射的方式在铜基底上制备Co-Ni合金薄膜,重点研究了溅射功率与Co-Ni合金薄膜的沉积速率、成分的关系,结果表明沉积速率随溅射功率的增加而增加;溅射功率在0.8～1.1kW之间时,薄膜成分与靶材成分基本一致;并把1.1kW时制备的Co-Ni合金薄膜的电极化腐蚀性能与电镀Cr薄膜、离子镀Cr薄膜相比较,结果表明Co-Ni合金的腐蚀电位可达到-0.245V,具有较强的耐腐蚀性.