Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2001-12-30

Journal: 仪器仪表学报

Included Journals: PKU

Volume: 22

Issue: z1

Page Number: 307-308

ISSN: 0254-3087

Key Words: TiNi;形状记忆薄膜;光刻;Pt薄膜;MEMS

Abstract: TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一。研究了剥离工艺(lift\|off)用于TiNi薄膜图形化的可行性，并首次利用溅射的金属Pt作掩膜进行TiNi薄膜湿法腐蚀。结果表明：溅射的Pt在HF/HNO3/H2O腐蚀TiNi过程中，具有抗腐蚀力强、与TiNi结合致密、不漂起的特点，是TiNi薄膜长时间腐蚀的理想掩膜材料。