Hits:

Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2008-05-10

Journal:高等学校化学学报

Included Journals:SCIE、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:29

Issue:5

Page Number:932-935

ISSN No.:0251-0790

Key Words:方酸;菁染料;水溶性;光稳定性

Abstract:用方酸与不同的N烷基取代吲哚啉季铵盐缩合制备了一系列对称的水溶性方酸菁染料. 通过核磁共振氢谱和质谱对合成的染料结构进行了表征, 研究了它们在不同溶剂中的吸收和发射光谱. 结果表明, 随着溶剂极性的增大, 染料的吸收光谱发生蓝移, 表现为负向溶剂化效应, 在极性溶剂中的荧光量子产率比在水中的大. 考察了N位取代基对染料水溶液光稳定性的影响, 结果表明在吲哚环N原子上引入较大的苄基有助于提高光稳定性, 且随着苄基上取代基吸电子能力的增强, 染料的光稳定性增强.