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相控真空开关中短间隙电弧介质恢复研究

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2003-10-10

Journal:大连理工大学学报

Included Journals:Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:43

Issue:5

Page Number:619-622

ISSN No.:1000-8608

Key Words:相控开关;临界开距;介质恢复

Abstract:讨论了真空短间隙及其对应的短燃弧时间对相控真空开关介质恢复特性的影响,应用金属蒸汽密度模型和不同的间隙边界条件,得到燃弧时间与电极表面温度、金属蒸汽密度的关系.进行开断试验得到工业真空开关(12 kV,25 kA)开断额定短路电流不发生重燃对应的临界燃弧时间为2.5 ms,临界开距为3.2 mm,为相控真空断路器的控制系统设计提供了理论和实验依据.

Pre One:基于永磁操动机构的光控模块式多断口真空断路器技术

Next One:基于自适应神经元的短路电流参数提取