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教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 国际磨粒技术学会（International Committee of Abrasive Technology, ICAT）委员，中国机械工程学会极端制造分会副主任、生产工程分会常务委员、微纳米制造技术分会常务委员，中国机械工程学会生产工程分会磨粒加工技术专业委员会副主任、切削加工专业委员会常委委员、精密工程与微纳技术专业委员会常委委员，中国机械工程学会特种加工分会超声加工技术委员会副主任，中国机械工程学会摩擦学分会微纳制造摩擦学专业委员会常务委员，中国机械工业金属切削刀具协会切削先进制造技术研究会常务理事、对外学术交流工作委员会副主任、切削先进制造技术研究会自动化加工技术与系统委员会副主任。
性别：男
毕业院校：西北工业大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化. 机械电子工程. 航空宇航制造工程
办公地点：机械工程学院7191
电子邮箱：kangrk@dlut.edu.cn
Research on topography control of two-spindle and three-workstation wafer grinder
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论文类型：期刊论文
发表时间：2011-09-01
发表刊物：PROCEEDINGS OF THE INSTITUTION OF MECHANICAL ENGINEERS PART C-JOURNAL OF MECHANICAL ENGINEERING SCIENCE
收录刊物：Scopus、SCIE、EI
卷号：225
期号：C9
页面范围：2232-2241
ISSN号：0954-4062
关键字：grinder; chuck topography; silicon wafer; chuck dressing; modelling
摘要：Silicon wafers are widely used in integrated circuits. This article addresses an important aspect of flat wafer grinding: grinder design. An advanced grinder with two-spindle and three-workstation for empty set300 mm silicon wafer based on the principles of in-feed grinding was successfully developed. A mathematical model on topography control was developed for the first time to provide a totally integrated solution for dressing chuck with given topography. The developed model was then applied to predict the chuck topography or to adjust the obliquity adjustment device according to the parameters of ground chuck. Finally, the pilot experiments on two groups of chucks, which demonstrate the correctness of topography control are included.