|
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 国际磨粒技术学会（International Committee of Abrasive Technology, ICAT）委员，中国机械工程学会极端制造分会副主任、生产工程分会常务委员、微纳米制造技术分会常务委员，中国机械工程学会生产工程分会磨粒加工技术专业委员会副主任、切削加工专业委员会常委委员、精密工程与微纳技术专业委员会常委委员，中国机械工程学会特种加工分会超声加工技术委员会副主任，中国机械工程学会摩擦学分会微纳制造摩擦学专业委员会常务委员，中国机械工业金属切削刀具协会切削先进制造技术研究会常务理事、对外学术交流工作委员会副主任、切削先进制造技术研究会自动化加工技术与系统委员会副主任。
性别：男
毕业院校：西北工业大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化. 机械电子工程. 航空宇航制造工程
办公地点：机械工程学院7191
电子邮箱：kangrk@dlut.edu.cn
软脆功能晶体碲锌镉化学机械抛光
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2008-12-15
发表刊物：机械工程学报
收录刊物：Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：44
期号：12
页面范围：215-220,225
ISSN号：0577-6686
关键字：软脆功能晶体;CdZnTe;化学机械抛光;纳米球抛光液
摘要：采用直径为2～5 μm α型Al2O3研磨剂和自行研制的均匀分布的5 nm抛光球抛光液,进行研磨-机械抛光-化学机械抛光新工艺对Cd0.9Zn0.1Te(111)、Cd0.96Zn0.04Te(110)和Cd0.96Zn0.04Te(111)单晶片进行了精密抛光研究,并对Cd0.96Zn0.04Te(111)单晶片采用研磨-机械抛光-化学腐蚀传统加工方法进行了对比研究.采用传统加工方法加工的Cd0.96Zn0.04Te(111)表面有很多的腐蚀沟、嵌入硬质颗粒和较大划痕;而采用新工艺后Cd0.9Zn0.1Te(111)单晶片表面光滑,无加工缺陷; Cd0.96Zn0.04Te(110)表面光滑,无任何嵌入硬质颗粒,有较浅的腐蚀坑和轻微的划痕;Cd0.96Zn0.04Te(111)表面光滑,无任何嵌入硬质颗粒、腐蚀坑,有非常少的极轻微的隐约可见的小划痕.Cd0.9Zn0.1Te(111)、Cd0.96Zn0.04Te(110)和Cd0.96Zn0.04Te(111)单晶片表面化学机械抛光后表面粗糙度Ra分别为2.196 nm,3.145 nm,3.499 nm.