康仁科

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教授

博士生导师

硕士生导师

任职 : 国际磨粒技术学会(International Committee of Abrasive Technology, ICAT)委员,中国机械工程学会极端制造分会副主任、生产工程分会常务委员、微纳米制造技术分会常务委员,中国机械工程学会生产工程分会磨粒加工技术专业委员会副主任、切削加工专业委员会常委委员、精密工程与微纳技术专业委员会常委委员,中国机械工程学会特种加工分会超声加工技术委员会副主任,中国机械工程学会摩擦学分会微纳制造摩擦学专业委员会常务委员,中国机械工业金属切削刀具协会切削先进制造技术研究会常务理事、对外学术交流工作委员会副主任、切削先进制造技术研究会自动化加工技术与系统委员会副主任。

性别:男

毕业院校:西北工业大学

学位:博士

所在单位:机械工程学院

学科:机械制造及其自动化. 机械电子工程. 航空宇航制造工程

办公地点:机械工程学院7191

电子邮箱:kangrk@dlut.edu.cn

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论文成果

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单晶硅片磨削损伤的透射电子显微分析

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论文类型:期刊论文

发表时间:2008-08-15

发表刊物:半导体学报

收录刊物:Scopus、EI、CSCD

卷号:29

期号:8

页面范围:1552-1556

ISSN号:0253-4177

关键字:单品硅片;磨削;损伤;TEM分析

摘要:为了揭示硅片自旋转磨削加工表面层损伤机理,采用透射电子显微镜对硅片磨削表面层损伤特性进行了分析.结果表明:粗磨Si片的损伤层中有大量微裂纹和高密度位错;半精磨和精磨si片的损伤层中除了微裂纹和位错外,还存在非晶硅和多晶硅(Si-I相和Si-III相).从粗磨到半精磨,Si片的非晶层厚度从约Onm增大到约110nm;从半精磨剑精磨,Si片的非品层厚度由约110nm减小至约30nm,且非晶层厚度的分布均匀性提高.从粗磨到精磨,Si片损伤深度、微裂纹深度及位错滑移深度逐渐减小,材料的去除方式由脆性断裂方式逐渐向塑性方式过渡.