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论文类型：期刊论文

发表时间：2011-01-01

发表刊物：功能材料

收录刊物：Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD

卷号：41

期号：9

页面范围：1708-1711

关键字：GDC/YSZ多层薄膜; 周期数; 生长形貌; 电学性能; 结构稳定性

摘要：利用反应磁控溅射方法在蓝宝石单晶衬底上制备了调制周期相同、周期数不同的GDC/YSZ纳米多层薄膜,采用X射线衍射、原子力显微镜对薄膜结构、粗糙度
   、生长形貌进行了表征,利用交流阻抗谱仪测试了多层薄膜不同温度下的电学性能。结果表明衬底上首层薄膜是整个多层膜的生长模板,首先沉积
   GDC时多层膜呈无规则生长而首先沉积YSZ时多层膜为(111)织构;GDC/YSZ多层膜的生长是一个逐渐粗糙化的过程,随着薄膜厚度的增大(周期数
   的增多),多层膜粗糙度与晶粒尺寸增大;随着周期数的增多,多层膜电导率逐渐增大,但电导活化能基本保持不变(约
   1.3eV);在500~800℃下退火,多层膜结构稳定,但由于薄膜晶粒长大,导致其电导率小幅降低(降低百分比<5%)