应用近红外光谱法建立伤疖膏制备过程中黄芩苷含量模型
Release Time:2019-03-10 Hits:
Indexed by: Journal Article
Date of Publication: 2013-01-01
Journal: 光谱学与光谱分析
Included Journals: Scopus、CSCD、ISTIC、PKU、PubMed、EI、SCIE
Volume: 33
Issue: 1
Page Number: 74-77
ISSN: 1000-0593
Key Words: 近红外光谱法;伤疖膏;黄芩苷;偏最小二乘回归(PLSR);含量测定
Abstract: 建立一种伤疖膏制备过程提取液中黄芩苷动态含量快速测定的近红外光谱分析方法,近红外透射光谱法扫描得到65组伤疖膏制备过程中提取液的近红外光谱图,以提取液中黄芩苷的HPLC测量值作为对照值,采用偏最小二乘回归算法(PLSR)建立NIR光谱与对照值的校正模型.校正模型主成分数为8,交叉验证均方根差(RMSECV)为0.006 8,相关系数(r)为0.999 1.应用校正模型对预测集的30组样品进行黄芩苷含量预测,所得预测均方根差(RMSEP)为0.009 2,r为0.998 7.结果表明,该方法快速、准确,为复方膏剂制备过程中化学成分快速定量和质量控制提供了方法和依据.