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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2012-01-01

Journal:中国表面工程

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:25

Issue:4

Page Number:56-61

Key Words:TiO2薄膜; 反应磁控溅射; 锐钛矿; 氧浓度; 光催化效应

Abstract:通过优化直流反应磁控溅射沉积工艺,在氩气和氧气气氛中溅射高纯钛靶,在玻璃和不锈钢衬底上直接低温沉积出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜。通过X射线衍射
   仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和表面轮廓仪分析发现,当氧的体积分数在5%~20%之间变化时,制得的TiO2薄膜是致密的锐钛矿结构,具有典型
   的锐钛矿相(101)、(004)、(112)、(211)、(220)的晶面特征峰,薄膜的晶粒尺寸随着氧含量的增加逐渐减小,其生长速率最快可达到6
   8nm/min。在紫外光的照射下分解甲基橙实验表明,所制备的薄膜具有良好的光催化分解有机物的能力。