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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2015-10-15

Journal:人工晶体学报

Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:44

Issue:10

Page Number:2702-2707

ISSN No.:1000-985X

Key Words:KDP晶体;表面粗糙度;水溶解抛光

Abstract:微纳水溶解抛光与计算机控制光学表面成形(CCOS)小工具抛光技术相结合,是针对大尺寸易溶于水的KDP晶体元件的一种有效加工方法.本文针对小工具抛光中行星运动方式及水溶解抛光工艺特点,为揭示各抛光工艺参数对KDP晶体表面粗糙度的影响规律,对晶体进行均匀抛光,并以抛光头转速比和转速、自转和公转方向、抛光载荷、抛光头直径、抛光液含水量为参变量,得到了最优抛光参数:抛光头公转自转反向,转速100r/min;抛光液含水量7.5％(质量分数);使用较大尺寸抛光头(工件尺寸的十分之一至五分之一).